CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-acetoksistiren

Molekulska formula: C10H10O2
Molekulska masa: 162,19
Uporaba: 4-acetoksistiren se uporablja predvsem v polprevodniški mikroelektroniki KrF fotorezist, funkcionalni polimerni smoli, ionsko izmenjevalni adsorpcijski smoli in industriji farmacevtske organske sinteze.

Pošlji povpraševanje

Opis

Tehnične parametre

Opis izdelkov

4-acetoksistiren (AST) je monomer stirena z acetilno zaščitno skupino. Ima boljšo stabilnost pri shranjevanju kot 4-hidroksistiren. Po polimerizaciji se lahko hidrolizira, da se proizvede polihidroksistiren (PHS). Z nizko vsebnostjo kovinskih nečistoč je ključna surovina osnovne smole za 248nm KrF fotorezist.

Specifikacija izdelkov

Ime izdelka	pACS/AST/4-acetoksistiren
CAS ŠT	2628-16-2
ŠT	M212
Videz	Brezbarvna bistra tekočina
Čistost	99%
Gostota	1,06 g/ml pri 25 stopinjah
Lomni količnik	1.538
Vrelišče	260 stopinj
Tališče	7-8 stopinj
Paket	100g/1kg/10kg itd.
Dostava	2-3 dni
Shranjevanje	2-8 stopinj
MSDS/COA/TDS	Poveži nas

Uporaba izdelkov

4-acetoksistiren (pACS/AST) se večinoma uporablja v fotorezistu KrF za polprevodniško mikroelektroniko, funkcionalne polimerne smole in industrijo farmacevtske organske sinteze.

product-3000-1095

pogosta vprašanja

V: Kakšno vlogo igra pACS pri proizvodnji fotorezista KrF?

O: Po polimerizaciji in hidrolizi pACS tvori osnovno smolo PHS, ki je glavna smola, ki tvori film 248nm KrF pozitivnega fotorezista in je ena od osnovnih surovin za fotorezist.

V: Zakaj pACS zahteva hlajenje pri 2~8 stopinjah?

O: pACS vsebuje vinilne skupine in je nagnjen k samopolimerizaciji pri sobni temperaturi. Hlajenje pri nizki temperaturi skupaj z inhibitorjem TBC lahko učinkovito zavira polimerizacijo in prepreči prezgodnjo hidrolizo acetilnih zaščitnih skupin.

V: Kakšne prednosti formulacije lahko prinese monomer pACS za fotorezist KrF?

O: pACS odlikuje visoka čistost in nizka vsebnost kovinskih nečistoč. Polimerizirana PHS smola ima ozko porazdelitev molekulske mase. Nastali fotorezist KrF zagotavlja visoko ločljivost slike in nizko hrapavost robov linij, kar je primerno za izdelavo finih vezij silicijevih rezin.

V: Kateri scenariji so primerni za fotoobčutljive premaze iz pACS?

O: Prevleka je odporna na vročino in se lahko uporablja kot zaščitna prevleka za elektronske komponente za izpolnjevanje zahtev odpornosti na visoke temperature in zaščite izolacije.

Priljubljena oznake: cas no: 2628-16-2 pacs/ast/4-acetoksistiren, Kitajska cas no: 2628-16-2 pacs/ast/4-acetoksistiren proizvajalci, dobavitelji