Opis izdelkov
PEES (pEES) nosi kislinsko labilno etoksietoksi zaščitno skupino, ki jo je mogoče hitro odstraniti s kislinsko katalizo. Odlikuje ga dobra toplotna stabilnost in ultra nizka vsebnost kovinskih nečistoč. Lahko se polimerizira za pripravo polihidroksistirena (PHS) za kemično ojačan fotorezist KrF visoke ločljivosti.
Specifikacija izdelkov
| Ime izdelka | PEES/4-(etoksietoksi)stiren |
| CAS ŠT | 157057-20-0 |
| ŠT | M120 |
| Videz | Brezbarvna bistra tekočina |
| Čistost | Večji ali enak 99 % |
| Vsebnost vode | Manj ali enako 0,05 % |
| Nečistoče kovinskih ionov | Manj ali enako 1 ppb |
| Paket | 100g/1kg/10kg itd. |
| Dostava | 2-3 dni |
| Shranjevanje | sobna temperatura |
| MSDS/COA/TDS | Poveži nas |
Uporaba izdelkov
PEES (p-(1-etoksietoksi) stiren) se večinoma uporablja za sintezo smole za fotorezist KrF v polprevodniški mikroelektroniki, funkcionalnih polimernih materialih in napredni industriji raziskav in razvoja novih materialov.
pogosta vprašanja
V: Kakšne so zahteve za shranjevanje PEES?
O: Stabilizirano z inhibitorjem TBC. Hraniti zaprto pri 2~8 stopinjah stran od svetlobe. Izolirajte vir zraka in toplote, da preprečite samopolimerizacijo vinila in prezgodnjo odstranitev zaščite s kislino.
V: Kakšno je načelo monomera PEES v sistemu fotorezistne smole KrF?
O: PEES vsebuje na kislino občutljivo etoksietoksi zaščitno skupino. Fotokislina, ki nastane po izpostavljenosti litografiji, sproži odstranitev zaščite. Smola se spremeni iz alkalijsko netopne v alkalijsko topno, da se doseže razvoj vzorca rezin.
V: Kakšna zaščita je potrebna za delovanje PEES v skladu s SDS?
O: Draži oči, kožo in dihala. Delovanje je treba izvajati v dimni napi z zaščitnimi očali, rokavicami, odpornimi na topila, in ščitnikom za obraz.
V: Kakšna je bistvena razlika med fotorezistnimi monomeri PEES in pACS/PTBS?
O: PEES ima etoksietoksi zaščitno skupino s hitro stopnjo odstranjevanja kislinske zaščite. pACS potrebuje hidrolizo za odstranitev zaščite, PTBS ima tert-butoksi skupino. Zasnovani so za različne občutljivosti fotorezista.
V: Kaj se zgodi s kislinsko labilno zaščitno skupino monomera PEES med izpostavljenostjo fotorezistu KrF?
O: Fotokislina nastane ob izpostavljenosti. Etoksietoksi zaščitna skupina se hitro cepi. Polimer se spremeni v fenolno hidroksilno strukturo, ki se spremeni iz alkalijsko netopnega v alkalijsko topnega za razvoj litografskega vzorca.
Priljubljena oznake: cas no: 157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styrene, Kitajska cas no: 157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styrene proizvajalci, dobavitelji
